[PLURK][2024-09-15] 讀RSS心得記錄

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貼文時間:2024-09-15 13:58:48
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工信部推广国产DUV光刻机:套刻≤8nm – cnBeta.COM 移动版
其中氟化氩光刻机显示为分辨率≤65nm、套刻≤8nm;氟化氪则显示分辨率≤110nm、套刻≤25nm。

不过需要注意的是,套刻精度为“多重曝光能达到的最高精度”,按套刻精度与量产工艺约1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,大致相当于20年前ASML的1460K

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